Produk

Urang diajar hiji éléktroda pilem nanokarbon nitrogén-doped kalawan konsentrasi nitrogén leuwih handap 10,9 dina% dibentuk ku magnetron henteu saimbang (UBM) metoda sputtering.Eusi sp(3) dina film nanokarbon sputtering UBM-doped nitrogén (film N-UBM) rada ningkat kalayan ngaronjatna konsentrasi nitrogén.Beungkeut kawas grafit anu ngandung nitrogén turun sarta beungkeutan kawas piridin nambahan kalayan ngaronjatna konsentrasi nitrogén.Film N-UBM boga permukaan anu lemes pisan kalayan kasarna rata-rata 0,1 nepi ka 0,3 nm, anu ampir teu gumantung kana konsentrasi nitrogén.éléktroda pilem N-UBM nembongkeun jandela poténsi lega (4,1 V) ti éléktroda pilem murni-UBM (3,9 V) alatan kanaékan slight eusi sp (3).Aktivitas éléktrokatalitik ngaronjat kalayan ngaronjatna konsentrasi nitrogén, nunjukkeun yén éléktroaktivitasna maksimal nalika konsentrasi nitrogén sakitar 10,9 dina%, anu dikonfirmasi ku pamisahan puncak Fe(CN)6(4-).Potensi réduksi hidrogén péroxida (H2O2) dina éléktroda pilem N-UBM bergeser kira-kira 0,1 V, sarta arus puncak H2O2 ngaronjat kira-kira 4 kali.